Жидкость8–9N
Гексахлордисилан (ГХДС)
Si2Cl6
UHP-гексахлордисилан — летучий кремнийсодержащий прекурсор для CVD/ALD.
По запросуКарточка →
Жидкость99+%; 5–6N
Диметилкадмий (ДМК)
(CH3)2Cd
Высокочистый диметилкадмий для микроэлектроники и технологий стабильных изотопов.
По запросуКарточка →
Жидкость99+%; 5–6N
Диметилцинк (ДМЦ)
(CH3)2Zn
Высокочистый диметилцинк, в том числе в виде 1 M раствора в гексане.
По запросуКарточка →
Жидкость99+%; 4–5N
Диэтилцинк (ДЭЦ)
(C2H5)2Zn
Высокочистый диэтилцинк; в номенклатуре также указан 15% раствор в гексане.
По запросуКарточка →
Соединение4–5N
Тетрабромид кремния
SiBr4
Высокочистый тетрабромид кремния для процессов современной микроэлектроники.
По запросуКарточка →
Соединение4–5N
Тетрайодид кремния
SiI4
Высокочистый тетрайодид кремния для микроэлектроники.
По запросуКарточка →
Жидкость
Тетракис(трифторфосфин)никель
Ni(PF3)4
Летучее соединение никеля для изотопных технологий и осаждения никелевых покрытий.
По запросуКарточка →
Жидкость99+%
Тетраметилолово
(CH3)4Sn
Летучее оловоорганическое соединение для специальных применений.
По запросуКарточка →
Жидкость6–7N; световодного качества
Тетрахлорид кремния
SiCl4
Высокочистый тетрахлорид кремния, включая световодное качество.
По запросуКарточка →
Соединение
Трибромид бора
BBr3
Трибромид бора для задач микроэлектроники и специального синтеза.
По запросуКарточка →
Жидкость99,9%; 5–7N
Триметилалюминий (ТМА)
(CH3)3Al
Высокочистый триметилалюминий для микроэлектроники и химического синтеза.
По запросуКарточка →
Газ
Трифторфосфин
PF3
Газообразный трифторфосфин для микроэлектроники и синтеза Ni(PF3)4.
По запросуКарточка →
Соединениеосч.
Триэтилиндий (ТЭИ)
(C2H5)3In
Высокочистый индийорганический прекурсор для полупроводниковых технологий.
По запросуКарточка →
Соединение
Борогидрид циркония
Zr(BH4)4
Редкое летучее соединение для специального синтеза и перспективных процессов осаждения.
По запросуКарточка →
Порошок
Гексакарбонил вольфрама
W(CO)6
Летучее карбонильное соединение вольфрама.
По запросуКарточка →
Соединениеосч. 3–7N
Гексаметилдисилазан (HMDS)
[(CH3)3Si]2NH
Высокочистый кремнийорганический реагент для микроэлектроники.
По запросуКарточка →
Соединение
Гексаметилдистаннан (гексаметилдиолово)
(CH3)3Sn–Sn(CH3)3
Оловоорганическое соединение.
По запросуКарточка →
Соединение
Гексафторацетилацетонат бария
Ba(CF3COCH=C(O)CF3)2
Фторированный координационный комплекс бария.
По запросуКарточка →
Соединениеосч. 3–7N
Ди-трет-бутилсилан
(tert-C4H9)2SiH2
Кремнийорганический гидрид для органического синтеза.
По запросуКарточка →
Соединение
Дифенилдиселенид
PhSe–SePh
Дифенилдиселенид.
По запросуКарточка →
Соединениеосч. 3–7N
Диэтилсилан
(C2H5)2SiH2
Кремнийорганический гидрид для органического синтеза.
По запросуКарточка →
Соединение
Комплекс трибромида бора с диметилсульфидом
BBr3·Me2S
Комплекс трибромида бора с диметилсульфидом.
По запросуКарточка →
Соединениеосч. 3–7N
Метилсилан
CH3SiH3
Высокочистый метилсилан для микроэлектроники.
По запросуКарточка →
Твёрдое вещество
Нитрид германия
Нитрид германия.
По запросуКарточка →