Жидкость99,9%; 5–7N
Триметилалюминий (ТМА)
(CH3)3Al
Высокочистый триметилалюминий для микроэлектроники и химического синтеза.
По запросуКарточка →
Соединение98–99%
Три-н-гексилалюминий (ТНГА)
(n-C6H13)3Al
Три-н-гексилалюминий для каталитических и изотопных технологий.
По запросуКарточка →
Жидкость
Комплекс алана с диметилэтиламином
AlH3 . N(CH3)2(C2H5)
Высокочистое соединение для полупроводниковых, микроэлектронных и специальных технологий.
По запросуКарточка →
Жидкость
Диметилалюминийгидрид
(CH3)2AlH
Высокочистое соединение для полупроводниковых, микроэлектронных и специальных технологий.
По запросуКарточка →
Жидкость
Этоксид диэтилалюминия
(C2H5)2Al(OC2H5)
Высокочистое соединение для полупроводниковых, микроэлектронных и специальных технологий.
По запросуКарточка →