Тетракис(диметиламино)гафний

ФормулаHf[N(CH3)2]4CAS19782-68-4ЧистотаПо спецификации
Поставка

Цена и срок по запросу

Описание

Высокочистое химическое соединение из номенклатуры ООО «ДИСИКОМ». Актуальная спецификация, доступная фасовка, срок изготовления и коммерческие условия предоставляются по запросу.

Применение

ALDCVDМикроэлектроника

Прекурсор CVD/ALD для функциональных покрытий и микроэлектроники.